“光刻機概念股”蘇大維格因誤導投資者被深交所啓動紀律處分程序

經濟觀察網 記者 李華清 在各大券商研報中均被當成“光刻機”概念股的蘇大維格（300331.SZ），近日因光刻機相關回復內容踩了雷。

10月12日，深交所向蘇大維格下發關注函，關注函中提到，9月14日，蘇大維格在深交所互動易平台上回復投資者提問時稱“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售，並已實現向日本、韓國、以色列等國家出口”，還稱“公司已關注到納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領域具備替代傳統光刻的應用潛力，並在積極布局”。深交所認爲，蘇大維格在互動易上對投資者提問的回復涉嫌存在不真實、不准確、不完整情形及誤導性陳述，將對蘇大維格及相關違規當事人啓動紀律處分程序。

事實上，9月14日蘇大維格在互動易上稱自家光刻機已實現對國內龍頭芯片企業的銷售並出海後，迅速引發關注，深交所在9月15日就曾對蘇大維格下發關注函，詳細問詢其這一說法，並要求其在9月22日前回復關注函，但10月8日，蘇大維格才公告對深交所這一關注函的回復，並在回復中改口稱“公司所生產的光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產品的生產”。

此光刻機非彼光刻機

蘇大維格在2023年度半年報中如此介紹自己：“公司是國內領先的微納結構產品制造和技術服務商，通過自主研發微納光學關鍵制造設備——光刻機，建立了微納光學研發與生產制造的基礎技術平台體系，爲客戶提供不同用途微納光學產品的設計、开發與制造服務。”

實際上，蘇大維格的微納光學制造技術主要應用在三個領域，一是公共安全和新型印材領域，例如做駕駛證、行駛證的防僞膜，定制化包裝材料；二是消費電子材料領域，例如做透明導電膜，可以應用在會議平板、商顯、觸控電視等中大尺寸終端設備上；三是反光材料，例如做反光布、反光膜等。

蘇大維格內部有四個事業群，除开公共安全和新型印材事業群、消費電子新材料事業群、反光材料事業群外，還有一個高端智能裝備事業群，蘇大維格的裝備事業群所涉及的裝備主要是光刻設備和微納光學產品智能裝備兩類。這兩類設備，都是蘇大維格自主研發、設計和生產。但蘇大維格的光刻設備，跟大衆認知裏的用於生產芯片的光刻設備，不是一回事。

在10月8日公告的對深交所關注函的回復中，蘇大維格介紹，從曝光方式上，光刻機可以分爲掩模光刻機(在運行過程中需要使用掩模板)，包括接觸式/接近式光刻機，投影式光刻機(如DUV和EUV)等；以及無掩模光刻機，也叫“直寫光刻機”，包括電子束光刻機、激光直寫光刻機、激光直接成像設備(LDI)等。

蘇大維格承認，一般情況下，大衆所說的光刻機是有掩模光刻機中的投影式光刻機，與自家所生產的激光直寫光刻機不屬於同一技術路线。

“公司自2001年左右开始研發各類光刻設備，包括激光直寫光刻機、納米壓印設備等，前述設備主要用於微納光學產品和衍射光學器件的制造，公司所生產的光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產品的生產。”蘇大維格在對深交所關注函的回復中稱。

事實上，蘇大維格自主开發、制造的光刻設備，不僅不能應用在芯片的制造中，對外銷售的金額也非常小。

2022年，蘇大維格开發生產的激光直寫光刻設備實現對外銷售收入約770.93萬元，2023 年上半年實現對外銷售收入約2177.27萬元，對當期營收的佔比分別爲0.45%和2.76%，蘇大維格生產的光刻設備，主要是自用。

蘇大維格還在對深交所關注函的回復中承認，自家生產的“激光直寫光刻設備在最小线寬、线寬均勻度、網格精度、穩定性等關鍵技術參數與同行業龍頭公司相比存在較大差距。”

納米壓印光刻技術的局限

蘇大維格承認證券部門在互動易上說的“光刻機”、“龍頭芯片公司”引起部分投資者的誤解，那么，它所說的“納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領域具備替代傳統光刻的應用潛力”，可信嗎？在對深交所關注函的回復中，蘇大維格對此說法補充提示了風險。

蘇大維格介紹，雖然確實有廠商嘗試用納米壓印技術來生產集成電路，但目前大多停留在實驗或驗證階段，要實現高端芯片的生產還面臨模板結構均勻性與分辨率、缺陷率控制、模板壽命、壓印膠材料、模具定位和套刻精度等諸多挑战，能否成功應用尚無定論。

蘇大維格承認，自身目前在納米壓印領域的應用和研發，除透明導電薄膜外，主要集中在光學材料領域，與集成電路方面的應用無直接關系，雖然已經注意到納米壓印光刻在集成電路領域的應用潛力並在此領域進行嘗試，但對比早就在此領域做布局的龍頭企業，自身在分辨率等部分關鍵參數上存在數量級的差距。

“現階段，納米壓印光刻技術在集成電路領域的產業化應用方面仍存在較多的技術難題和不確定性”，蘇大維格提醒投資者注意風險。

深交所稱，希望經歷紀律處分後，蘇大維格能吸取教訓，及時整改，杜絕類似問題再次發生。

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